納米(mi)研磨(mo)分(fen)散機(ji)對(dui)於納米(mi)的物(wu)料分(fen)散壹(yi)直(zhi)是(shi)人(ren)們關註的熱點(dian)，納米(mi)分(fen)散存(cun)在(zai)著難以解(jie)決的問題，納米(mi)物(wu)料分(fen)散到(dao)流(liu)體物(wu)質當中容易(yi)形(xing)成(cheng)二級團聚(ju)體，導(dao)致(zhi)物(wu)料粒(li)徑變(bian)大，難(nan)以(yi)分(fen)散。面對這種情況，SGN研發(fa)出新型(xing)設備(bei)-研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)，應(ying)對納米(mi)物(wu)質的(de)分(fen)散問題。並有著廣(guang)泛(fan)的(de)實例(li)，如納米(mi)級白(bai)炭(tan)黑(hei)的(de)分(fen)散，納米(mi)級石(shi)墨(mo)烯的分(fen)散，都在使用(yong)SGN研磨(mo)分(fen)散機(ji)進行(xing)分(fen)散處(chu)理(li)，*。

食(shi)品(pin)高(gao)速(su)研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)，SGN研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)是(shi)壹(yi)款集(ji)研(yan)磨(mo)和分(fen)散壹(yi)體化的設備(bei)，是(shi)壹(yi)項(xiang)新(xin)的(de)技術(shu)革新(xin)。研磨(mo)分(fen)散機(ji)是(shi)將膠(jiao)體磨(mo)（錐(zhui)體磨(mo)）+高(gao)剪切分(fen)散機(ji)壹(yi)體化的設備(bei)，先(xian)研磨(mo)後分(fen)散，物(wu)料研(yan)磨(mo)後又瞬間(jian)進行(xing)分(fen)散，避免了物(wu)料的(de)二次團聚(ju)。SGN研磨(mo)分(fen)散機(ji)轉(zhuan)速(su)可(ke)達(da)14000rpm，線(xian)速(su)度44m/s，剪切速(su)率(lv)強(qiang)，也稱“高(gao)速(su)研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)”

聚(ju)酰亞胺(an)薄(bo)膜(mo)研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)，上(shang)海(hai)思(si)峻的(de)研磨(mo)分(fen)散機(ji)特別(bie)適(shi)合於需要(yao)研(yan)磨(mo)分(fen)散均(jun)質壹(yi)步(bu)到(dao)位(wei)的(de)物(wu)料。攪(jiao)拌與(yu)研磨(mo)壹(yi)體，研磨(mo)效(xiao)果好(hao)，能減(jian)少物(wu)料使用(yong)量，能(neng)降低(di)生產(chan)成(cheng)本。研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)為立(li)式(shi)分(fen)體結(jie)構(gou)，精密(mi)的零(ling)部(bu)件(jian)配合運轉平(ping)穩(wen)，運(yun)行(xing)噪(zao)音在(zai)73DB以(yi)下(xia)。同時(shi)采(cai)用(yong)德國(guo)博(bo)格(ge)曼(man)雙端(duan)面機(ji)械(xie)密(mi)封，並(bing)通冷(leng)媒(mei)對密(mi)封部(bu)分(fen)進行(xing)冷(leng)卻(que)，把(ba)泄露概率(lv)降到(dao)低(di)，保(bao)證(zheng)機(ji)器(qi)連續24小(xiao)時不(bu)停機(ji)運(yun)行(xing)。

*研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)，*註(zhu)射(she)液(ye)、軟膏等產(chan)品(pin)，想(xiang)要(yao)獲(huo)得(de)好(hao)的藥(yao)效，需(xu)要(yao)對(dui)*粉(fen)體進行(xing)充(chong)分(fen)的細化，保(bao)證(zheng)藥(yao)效的(de)充(chong)分(fen)發(fa)揮。壹(yi)般*粉(fen)體原(yuan)始粒(li)徑為100μm左(zuo)右，加入(ru)液(ye)體介質後，采(cai)用(yong)GMSD2000系列高(gao)速(su)剪切研磨(mo)分(fen)散機(ji)，處(chu)理(li)後，粒(li)徑D90〈2μm，並(bing)且體系分(fen)散均(jun)勻，效果高(gao)。GMSD2000系列超(chao)高(gao)速(su)研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)轉(zhuan)速(su)可(ke)達(da)18000rpm，線(xian)速(su)度50m/s，定轉子(zi)精密(mi)度高(gao)，間(jian)隙(xi)小(xiao)。

三(san)氧化二鋁(lv)納米(mi)研磨(mo)分(fen)散機(ji)，所以(yi)現(xian)在許(xu)多(duo)廠(chang)家(jia)都是將(jiang)常規的(de) 微米(mi)級Al2O3 研磨(mo)成(cheng)納米(mi)級 Al2O3 ，但是(shi)粉末(mo)團(tuan)聚(ju)的成(cheng)為了(le)壹(yi)個(ge)難(nan)以(yi)解決的問題，上海(hai)SGN應(ying)對(dui)這(zhe)種現(xian)現(xian)狀，研(yan)發(fa)出新設備(bei)研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)，從(cong)而(er)解決了團聚(ju)難題。

石(shi)墨(mo)烯潤滑油超(chao)高(gao)速(su)膠(jiao)體磨(mo)，石(shi)墨(mo)烯改性潤滑油，提(ti)高(gao)潤滑油的(de)性能(neng)。主(zhu)要(yao)是(shi)將(jiang)石(shi)墨(mo)烯均(jun)勻的分(fen)散到(dao)潤滑油基質當中，分(fen)散的好(hao)壞(huai)取(qu)決於研磨(mo)設備(bei)對(dui)物(wu)料的(de)粒徑細(xi)化程(cheng)度，然而傳(chuan)統的潤滑油研(yan)磨(mo)分(fen)散設備(bei)無(wu)法滿(man)足(zu)研(yan)磨(mo)分(fen)散效果的(de)要(yao)求(qiu)，傳(chuan)統研磨(mo)分(fen)散設備(bei)轉(zhuan)速(su)較低，壹(yi)般為3000rpm。

鱗(lin)片石(shi)墨(mo)超高(gao)速(su)研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)，想(xiang)要(yao)石(shi)墨(mo)更(geng)好(hao)的分(fen)散，需要(yao)采(cai)用(yong)高(gao)品(pin)質的(de)分(fen)散設備(bei)，上(shang)海(hai)SGN結(jie)合多家(jia)客戶(hu)案例(li)，推薦GMSD2000系列超(chao)高(gao)速(su)剪切分(fen)散機(ji)對(dui)石(shi)墨(mo)粉體進行(xing)更(geng)充(chong)分(fen)的分(fen)散，漿料粒徑更(geng)細、壹(yi)般為10微(wei)米(mi)左(zuo)右，產(chan)品(pin)穩(wen)定(ding)性高(gao)。

鋁(lv)粉顏(yan)料(liao)研(yan)磨(mo)分(fen)散機(ji)，鋁(lv)粉顏(yan)料(liao)的(de)用(yong)途十(shi)分(fen)廣泛(fan)，所以(yi)需(xu)要(yao)將(jiang)鋁(lv)粉充(chong)分(fen)均(jun)勻的分(fen)散到(dao)顏(yan)料(liao)基質中去，如何更(geng)好(hao)的分(fen)散，從(cong)原(yuan)理(li)上講(jiang)，鋁粉(fen)的(de)粒(li)徑越(yue)小，分(fen)散越(yue)均(jun)勻，鋁粉(fen)顏(yan)料(liao)才能更(geng)加細(xi)膩(ni)、均(jun)勻、穩定(ding)。鋁粉(fen)顏(yan)料(liao)需(xu)要(yao)噴塗(tu)使用(yong)，噴塗(tu)後不(bu)能(neng)有顆(ke)粒(li)，要(yao)光(guang)滑，所以(yi)鋁(lv)粉的分(fen)散壹(yi)般會(hui)采(cai)用(yong)超高(gao)速(su)剪切速(su)率(lv)的分(fen)散設備(bei)進行(xing)更(geng)好(hao)的分(fen)散處(chu)理(li)。