石墨烯(xi)研磨分(fen)散機

石墨烯(xi)研磨分(fen)散機，石墨烯(xi)分散機，高剪切(qie)研磨分散機，高剪切(qie)分散機，管(guan)線式(shi)研磨(mo)分散機

石墨烯(xi)目前(qian)是(shi)世上(shang)zui薄卻(que)也(ye)是(shi)zui堅(jian)硬(ying)的納米材料 ，為(wei)世上(shang)電阻率(lv)zui小的材料。因為(wei)它的電阻率(lv)極(ji)低，電子遷移(yi)的速(su)度(du)極(ji)快(kuai)，因此被期(qi)待(dai)可(ke)用(yong)來(lai)發展出更薄、導電速(su)度(du)更快的新壹代(dai)電子元(yuan)件(jian)或晶體管(guan)。由於石墨烯(xi)實(shi)質(zhi)上是(shi)壹種(zhong)透明(ming)、良(liang)好(hao)的導體，也(ye)適合用(yong)來(lai)制造透明(ming)觸控屏幕(mu)、光板、甚至(zhi)是(shi)太陽(yang)能(neng)電(dian)池(chi)。所(suo)以(yi)越來(lai)越多的廠(chang)家(jia)開(kai)始研究(jiu)和(he)生產石墨烯(xi)。

石墨烯(xi)研磨分(fen)散機，上(shang)海(hai)SGN也(ye)響應這(zhe)個(ge)新興產業(ye)的號(hao)召(zhao)，隨之研發(fa)出石墨烯(xi)高剪切(qie)研磨分散機，在生產石墨烯(xi)的過(guo)程中(zhong)，如何將石墨更好(hao)的細化，以(yi)及細化後(hou)團聚問題(ti)的解決，成(cheng)為(wei)的zui大(da)的難(nan)點。

上海思峻GMD2000系列研磨分散機，可(ke)以(yi)很(hen)好(hao)的解決這(zhe)兩個(ge)問題(ti)。GMD2000系列的膠體磨（錐(zhui)體磨）+分散頭(tou)的組合，可(ke)以(yi)先將石墨混(hun)合物（配入(ru)溶劑(ji)和(he)分散(san)劑(ji)）研(yan)磨(mo)細化，然(ran)後再(zai)經過(guo)分散(san)頭(tou)，進(jin)行分散(san)。這(zhe)樣(yang)既(ji)可(ke)以(yi)細化又(you)可(ke)以(yi)避(bi)免(mian)團聚的現象(xiang)，為(wei)石墨烯(xi)行業(ye)提供(gong)了(le)強(qiang)有力(li)的設備(bei)力(li)量(liang)。

GMD2000系列研磨分散機的特點：

1、線速(su)度(du)很(hen)高，剪切(qie)間(jian)隙(xi)非常小，當(dang)物(wu)料經過(guo)的時候，形成(cheng)的摩擦(ca)力(li)就(jiu)比(bi)較劇(ju)烈(lie)，結(jie)果(guo)就(jiu)是(shi)通(tong)常(chang)所(suo)說的濕磨

2、定(ding)轉子被制成(cheng)圓(yuan)椎(zhui)形，具(ju)有精細度(du)遞(di)升(sheng)的三(san)級(ji)鋸(ju)齒(chi)突起和(he)凹槽(cao)。

3、定(ding)子可(ke)以(yi)無限(xian)制(zhi)的被調整到(dao)所(suo)需(xu)要(yao)的與轉子之間(jian)的距離

4、在增強(qiang)的流(liu)體湍流(liu)下，凹(ao)槽在每(mei)級(ji)都可(ke)以(yi)改變方向(xiang)

5、高質量(liang)的表面拋(pao)光和(he)結(jie)構(gou)材料，可(ke)以(yi)滿(man)足不同(tong)行業(ye)的多種要(yao)求(qiu)

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