頭孢(bao)克肟混懸液(ye)分散(san)機

壹、產品名(ming)稱(cheng)：頭孢(bao)克肟混懸液(ye)分散(san)機,頭孢(bao)克肟註(zhu)射(she)液(ye)分散(san)機,獸藥混懸液(ye)分散(san)機,醫(yi)藥混懸液(ye)分散(san)機,醫(yi)藥分散(san)機

二(er)、頭孢(bao)克肟的(de)性質(zhi)及(ji)制(zhi)備(bei)

頭孢(bao)克肟為(wei)口服(fu)用(yong)的第(di)三(san)代(dai)頭孢(bao)菌(jun)素類抗(kang)生(sheng)素，適用(yong)於(yu)治療敏感菌(jun)所(suo)致的(de)呼吸(xi)、泌尿(niao)和(he)膽(dan)道(dao)等(deng)部(bu)位的(de)感染(ran)。頭孢(bao)克肟對(dui)革蘭陰性桿菌(jun)產生的(de)β-內(nei)酰(xian)胺酶(mei)高(gao)度穩定(ding)，對革蘭陰性桿菌(jun)抗(kang)菌(jun)作(zuo)用(yong)強於(yu)*代(dai)和第二(er)代頭孢(bao)菌(jun)素，對革蘭陽性球(qiu)菌(jun)抗(kang)菌(jun)作(zuo)用(yong)不如(ru)*代和(he)第(di)二(er)代頭孢(bao)菌(jun)素。

壹般采用(yong)研(yan)磨混合(he)法(fa)研(yan)制頭孢(bao)克肟混懸液(ye)，並壹般采用(yong)高(gao)品(pin)質(zhi)的(de)研(yan)磨混合(he)設(she)備(bei)，因(yin)為混懸液(ye)的粒(li)徑(jing)會(hui)影響產品的(de)穩(wen)定(ding)性以(yi)及(ji)藥性。

三(san)、頭孢(bao)克肟混懸液(ye)研(yan)磨分(fen)散(san)設備(bei)簡(jian)介(jie)

結合(he)多(duo)家藥企案(an)例，推(tui)薦(jian)采用(yong)GMSD2000系(xi)列(lie)研(yan)磨分(fen)散(san)機進(jin)行(xing)頭孢(bao)克肟混懸液(ye)的研(yan)磨混合(he)分(fen)散(san)，壹般粒徑(jing)可(ke)達DN90≤5μm，產品均(jun)勻(yun)度更高(gao)。並(bing)且(qie)GMSD2000系(xi)列(lie)更環(huan)節都(dou)帶有夾(jia)套，處理過(guo)程中(zhong)可(ke)對物料進(jin)行(xing)溫(wen)度控制；清洗方(fang)便，符合(he)在(zai)線(xian)清(qing)洗和(he)滅(mie)菌(jun)。

（價(jia)格(ge)電議(yi)，劉，，公(gong)司有樣(yang)機(ji)可(ke)實(shi)驗(yan)！）

四(si)、SGN研(yan)磨分(fen)散(san)設備(bei)技術革新(xin)

     
膠(jiao)體磨(mo)和(he)分(fen)散(san)機的(de)壹體化(hua)設計(ji)相對(dui)於(yu)膠(jiao)體磨(mo)和(he)分(fen)散(san)機的(de)串聯而言(yan)更具(ju)優(you)勢(shi)。串聯的話(hua)存(cun)在時間差(cha)，當(dang)物料通過膠體磨(mo)之後，磨(mo)細後物料會出(chu)現抱團(tuan)的現象，再(zai)經(jing)過(guo)分(fen)散(san)機分(fen)散(san)，效果不(bu)是很(hen)好(hao)。而(er)GMD超(chao)細研(yan)磨分(fen)散(san)機的(de)話，物料磨細後，瞬(shun)間(jian)又(you)通(tong)過(guo)分(fen)散(san)工作(zuo)組(zu)，進(jin)行(xing)分(fen)散(san)，在物料還未抱團(tuan)之前(qian)，就(jiu)進(jin)行(xing)了(le)分(fen)散(san)，壹個瞬(shun)間(jian)作用(yong)，效果會(hui)好很(hen)多(duo)。

五、當(dang)所(suo)處(chu)理的(de)物料要達到非常細的(de)程度時候，對於(yu)設(she)備的要求(qiu)就(jiu)會非常的(de)高(gao)。而(er)從(cong)設(she)備角(jiao)度來考慮的話，能(neng)夠(gou)達(da)到(dao)超(chao)細的(de)效(xiao)果，要(yao)具(ju)備(bei)以(yi)下(xia)條件(jian)：
 

1、*的(de)剪(jian)切(qie)力(li)，GMD2000系(xi)列(lie)研(yan)磨分(fen)散(san)機轉(zhuan)速高(gao)達(da)14000rpm，線(xian)速度為44m/s，是普通設(she)備的(de)4-5倍(bei)。

2、高(gao)精(jing)密(mi)度的定(ding)轉子，超(chao)細研(yan)磨分(fen)散(san)機的(de)定(ding)轉子分(fen)為(wei)兩(liang)級，壹級為(wei)膠(jiao)體磨(mo)磨(mo)頭，采用(yong)三(san)級(ji)錯齒結構，磨頭的(de)溝槽的(de)深度角(jiao)度都(dou)符合(he)流體力(li)學的設(she)計(ji)。第二(er)級是(shi)分散(san)頭，SGN分(fen)散(san)頭有(you)六種(zhong)不同(tong)的規(gui)格(ge)，從(cong)粗(cu)到細，越(yue)來(lai)越密，分(fen)散(san)效果佳(jia)。

3、機(ji)械密封(feng)，超(chao)細的(de)效(xiao)果取(qu)決於(yu)高(gao)的(de)轉(zhuan)速，而轉(zhuan)速越高(gao)機(ji)械密封(feng)的發(fa)熱量(liang)就(jiu)會越大(da)，設(she)備的機械密封(feng)是否(fou)能(neng)夠(gou)耐(nai)的(de)住這(zhe)麽高(gao)的(de)轉(zhuan)速，國內(nei)大(da)多(duo)數廠(chang)家的(de)機械密封(feng)是無(wu)法(fa)

六、SGN分(fen)散(san)機在(zai)醫(yi)藥行(xing)業(ye)的(de)應用(yong)案例

1、頭孢(bao)類混懸液(ye)，采用(yong)GRS2000系(xi)列(lie)高(gao)剪(jian)切(qie)均質(zhi)機(ji)，處理30min，粒(li)徑(jing)可(ke)達5μm；

2、疫(yi)苗及(ji)脂肪(fang)乳乳化(hua)，采用(yong)SGN均質(zhi)機(ji)，乳液(ye)粒徑(jing)可(ke)達300nm；

3、阿(e)苯達唑混懸液(ye)，采用(yong)GRS2000均質(zhi)機(ji)，14000rpm，粒徑(jing)可(ke)達10μm；

4、口服(fu)液(ye)，采用(yong)SGN均質(zhi)機(ji)，14000rpm，20min，粒徑(jing)可(ke)達3μm；

當(dang)然(ran)還(hai)有其(qi)他(ta)方(fang)面(mian)的應用(yong)，以(yi)及(ji)具(ju)體工(gong)藝(yi)得出(chu)的結果不(bu)壹定(ding)相同(tong)，供(gong)參(can)考！

七(qi)、GMD2000系(xi)列(lie)頭孢(bao)克肟混懸液(ye)分散(san)機選型(xing)表

信(xin)息來(lai)源：www.sgnprocess。。ｃｎ

• GMSD2000疏(shu)水(shui)性白(bai)炭(tan)黑(hei)分(fen)散(san)機
• GMSD2000SGN復合(he)型(xing)石墨(mo)烯電熱塗(tu)料(liao)分散(san)機
• 石(shi)墨(mo)烯/銀(yin)復合(he)導(dao)電油(you)墨(mo)分散(san)機
• GMSD2000頭孢(bao)噻(sai)呋(fu)混懸液(ye)分散(san)機
• GMD2000銀(yin)粉顏(yan)料分(fen)散(san)機
• GMD2000鋁(lv)粉顏(yan)料分(fen)散(san)機
• GRS2000黃(huang)原膠性狀(zhuang)增(zeng)稠(chou)劑(ji)分(fen)散(san)機
• 超(chao)細粉體分(fen)散(san)機
• GMD2000/4鋰電池(chi)負(fu)極(ji)材(cai)料(liao)分(fen)散(san)機
• 鋰電池(chi)電極(ji)漿(jiang)料(liao)分(fen)散(san)機